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2013年環(huán)境影響評價案例分析教材詳解77

發(fā)表時間:2012/7/27 9:39:11 來源:互聯(lián)網(wǎng) 點擊關注微信:關注中大網(wǎng)校微信
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六、污染物排放總量控制分析

擬建工程污染物排放產生量、治理削減量和最終排放量核算見表4。

表4擬建工程污染物排放產生量、治理削減量和最終排放量

項目
污染物名稱
產生量/ (t/a)
治理削減量/ (t/a)
最終排放量/ (t/a)
廢氣
氟化物
17.115
16.26
0.855
 
排水量
131.98 m3/a
 
 
廢水
CODrr
194.99
6.54
188.16
 
NH3—N
82.83
77.06
5.77
固體廢物
固體廢物
6 064
6 064
0

由表4可見,擬建工程投產后,最終排入環(huán)境的廢氣主要污染物氟化物為0.855 t/a; 本工程排入環(huán)境的廢水為131.98萬m3/a,CODcj_放量為188.16 t/a,NH3—N排放量 為5.77 t/a;本工程固體廢物最終排放總量為0。

本項目位于北京經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū),目前開發(fā)區(qū)內無污染物排放控制的下達指標, 因此本項目也無明確的污染物排放的控制指標。2002年底開發(fā)區(qū)污水排放量為1.69 萬m3/d, CODa的質量濃度為300?400 mg/L,按預測本項目最終COD&的排放量 188.16 t/a,約占 2002 年全開發(fā)區(qū)(^^^的 8.84%; NH3—N 排放量為 5.77 t/a。

建議在滿足達標排放的前提下,以上污染物排放量作為本項目污染物總量控制指標建議值,報請環(huán)保主管部門審批,并提出實施總量控制指標的具體措施和計劃。

七、清潔生產及節(jié)水分析

目前我國集成電路生產己具備了一定的規(guī)模和基礎,初步形成了從產品設計、 前工序到后封裝的體系輪廓。目前國內主要有7個芯片制造骨干企業(yè),國內芯片生產企業(yè)總的講規(guī)模都不算太大,且產品工藝與國際先進水平有一定的距離。本項目 擬建設8英寸(20.32 cm) 0.35?0.18 pm,預計量產時月投片30 000片;12英寸 (30.48 cm)先進制程線,0.13?0.09 _,月投產3 000片。因此,無論是產品工藝 還是生產規(guī)模都將成為國內最先進的芯片生產企業(yè)。

擬建項目生產技術路線和生產工藝是在國際上較為先進的,技術水平上符合集成電路加工制作清潔生產的要求。本項目努力提高資源和能源的綜合利用能力,水 資源綜合利用取得一定的效果,部分廢水回用,廢物減量化,“三廢”治理措施合理可行。因此,基本上符合清潔生產的要求,但水資源綜合利用仍有潛力可挖。

表5 “三廢”排放情況比較

序號
污染物名稱
處理后排放量/ (g/片) (北京廠)
處理后排放量/ (g/片) (上海廠)
減少量/ (g/片)
 
1.1
氟化物
1.94
2.10
0.16
 
1.2
HC1
0.76
1.31
0.55
 
1.3
硫酸霧
3.57
2.58
-0.99
/=^
1.4
ci2 .
0.317
1.07
0.753
1.5
HN03
0.327
0.48
0.153
 
1.6
SiH4
0.102
0.10
-0.002
 
1.7
h3po4
0.143
0.12
-0.023
 
1.8
ph3
5.1X10—4
0.012
0.0115
 
1.9
AsH3
1.53X10"3
0.024
0.0225
 
2.0
VOC
7.44
3.81
-3.63
 
2.1
CODc,
426.7
26.7
-400
2.2
NH3—N
13.08
17.5
4.42
2.3
SS
134.49
31.23
-103.26
 
2.4
F 一
11.59
11.98
0.39
 
2.5
PH
6?9
6?9
 

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