環(huán)境影響評價師

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八、本次環(huán)境影響評價的結(jié)論與環(huán)評體會

(一)環(huán)評報告結(jié)論

中芯國際集成電路制造(北京)有限公司超大規(guī)模集成電路芯片生產(chǎn)線項目(一期)建在北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)內(nèi)，符合國家信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃和政策，符合區(qū)域功能區(qū)的發(fā)展規(guī)劃和產(chǎn)業(yè)布局，本項目的建設性質(zhì)集中體現(xiàn)了北京市發(fā)展高新技術(shù)企 業(yè)、振興制造業(yè)的發(fā)展方向，也與北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)環(huán)境保護規(guī)劃基本相符。

首先應該指出的是：芯片制造業(yè)屬于高新技術(shù)密集型生產(chǎn)線項目，本項目全部技 術(shù)和生產(chǎn)工藝及治理措施全部由外商引進，其生產(chǎn)工藝具有國際先進性。但也應看到, 作為企業(yè)依據(jù)市場需求轉(zhuǎn)產(chǎn)、改產(chǎn)容易，而生產(chǎn)不同規(guī)格、數(shù)量的芯片，其生產(chǎn)工藝、原材料使用、污染物排放量和源強、用排水量等是不一樣的。本次環(huán)境影響評價的依 據(jù)是建設單位提交8英寸(20.32 cm) 0.35?0.18gm，月投片量為30 000片的芯片生 產(chǎn)線和12英寸(30.48 cm)先進制程線，0.13?0.09 jim，月投片量為3 000片的初步

設計資料，通過物料詳細核算、現(xiàn)場監(jiān)測、類比調(diào)查進行評價而得出結(jié)論的。

本工程在環(huán)保設計中釆用了國內(nèi)、外先進、可行的治理“三廢”措施，以確保實現(xiàn)清潔文明生產(chǎn)，各項污染物能夠達標排放。

環(huán)境影響與預測表明，本工程建成后對當?shù)卮髿猸h(huán)境影響較小;擬建工程排水由開發(fā)區(qū)污水處理廠接納是可行和可靠的，建設單位用水也能夠得到保證供應;噪 聲對工業(yè)區(qū)劃定的三類噪聲功能區(qū)的環(huán)境影響較小。

本次環(huán)境評價提出建設單位會同北京市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)相關單位在本項目周邊 50 m內(nèi)不應再規(guī)劃布置環(huán)境敏感建筑，并在廠界周邊50 m范圍內(nèi)，密集種植高大 喬木與低矮灌木、草地相結(jié)合的封閉綠化隔離帶，一方面是非常好的綠化措施，同 時也是防范環(huán)境風險與環(huán)境安全的最簡捷、有效措施。.

經(jīng)詳細論證，從環(huán)保角度考慮，本項目在認真落實并保證環(huán)保資金的投入，切 實落實各專題環(huán)保治理措施和防范措施、解決好相關環(huán)境問題，在完成環(huán)境管理機構(gòu)的環(huán)境管理要求的前提下，在北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)41號地塊內(nèi)建設上是可行的。

建議開發(fā)區(qū)應慎重考慮水資源問題，在北京嚴重缺水的情況下，加快開展區(qū)域規(guī)劃的環(huán)評工作，進行水資源評價，研究水資源的綜合規(guī)劃與綜合利用。目前開發(fā) 區(qū)水源為城市水廠的單線供水，建議開發(fā)區(qū)盡快落實開拓第二條輸水管線的方案， 落實輸入水源與水量，以促進區(qū)域經(jīng)濟發(fā)展。長期以來，用水需求已經(jīng)超過了當?shù)厮Y源的承載能力和環(huán)境容量，造成大部分地區(qū)地下水超采，除大興區(qū)外，全市地 下水埋深下降1?5m。北京市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)的總體規(guī)劃環(huán)境影響評價還沒有完成， 環(huán)境管理機構(gòu)與政府部門尚未給出區(qū)域總體的給排水計劃與用量分配計劃。目前開發(fā)區(qū)實際日消耗水量約3萬m3。本項目日用新鮮水量為4 500m3，約占全市水資源 曰消耗量的0.3%,而政府機構(gòu)給出的本項目一期用水指標為7 500m3,顯示出政府 對于本項目的支持力度，因本項目還有進行二期項目升級的計劃，用水量將更大。本次環(huán)境影響評價認為建設單位與開發(fā)區(qū)管理機構(gòu)應該進行區(qū)域水資源與水綜合利 用評價。滿足區(qū)域總體用水功能與經(jīng)濟發(fā)展的需要。特別是本項目周邊還有用水量 更大的京東方液晶項目，本次環(huán)境影響評價認為在僅以北京第九水廠作為供水水源， 而第十水廠尚未建立，地下水已經(jīng)沒有大規(guī)模開釆水量，南水北調(diào)尚未實施的前提下，單純從環(huán)境保護考慮，本次環(huán)境評價建議開發(fā)區(qū)應慎重考慮水資源問題，在北 京嚴重缺水的情況下，審慎引進高耗水類的項目。但本項目已經(jīng)取得用水指標，屬 于符合經(jīng)核定的用水指標之列。

(二)本次環(huán)境影響評價的工作體會

1.環(huán)評技術(shù)路線

本評價核心問題是需要從以下幾個方面?zhèn)戎丶右杂懻摚涸u價區(qū)環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀即 區(qū)域的環(huán)境承載力;結(jié)合北京市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)總體規(guī)劃(亦莊衛(wèi)星城總體規(guī)劃)，

論證廠址選擇的環(huán)境可行性和總圖布置的合理性;從水資源的供給和利用等方面論證項目選址的可行性，進一步分析并提出節(jié)水途徑和措施;擬建項目的清潔生產(chǎn)水 平;對有毒危險品的儲運及使用進行風險分析;污染治理措施;污染物達標排放分 析等7個方面進行全面闡述。以實現(xiàn)北京市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)的經(jīng)濟效益、社會效益和環(huán)境效益協(xié)調(diào)發(fā)展為最終目的。

2. 工作難點

本項目屬于高新技術(shù)行業(yè)，其特點是技術(shù)新、工藝復雜、環(huán)境污染源類比調(diào)查 困難，沒有可以借鑒的歷史資料及監(jiān)測數(shù)據(jù)。因此工作重點要放在工程分析與工程污染源評價上。只有通過對項目生產(chǎn)工藝、工程污染源的詳細調(diào)查與分析，通過詳 細準確的物料衡算，元素平衡，才能較為準確的預測項目投產(chǎn)后對環(huán)境可能造成的 影響程度、范圍以及當?shù)丨h(huán)境可能發(fā)生的變化狀況，并在此工作基礎上，才能對擬建項目建設的可行性從環(huán)境角度做出結(jié)論。同時才能提出相應的環(huán)保治理措施與建 議，為領導的決策、設計部門的設計和建設單位的管理提供依據(jù)。

由于涉及高新技術(shù)行業(yè)的環(huán)境影響評價，建設單位總是以各種理由對于建設項 目可能產(chǎn)生的環(huán)境問題進行敷衍，通過類比調(diào)查和物料平衡及元素平衡是有效的解決方案。另外，電子行業(yè)并不是傳統(tǒng)輕污染行業(yè)，電子產(chǎn)品的制造正向著化學信息 品的方向發(fā)展，其特點是原料消耗量大、種類多、輔助工藝多，用水量大。本次評價體會就是要作好環(huán)評工作，一定要結(jié)合芯片生產(chǎn)項目的特點和環(huán)境敏感問題，及早發(fā)現(xiàn)該項目可能發(fā)生的環(huán)境問題，提出解決這些環(huán)境問題的途徑，要進行詳細的清潔生產(chǎn)論證，給出環(huán)境監(jiān)管和治理措施方案。

3. 標準引用

本項目為半導體芯片生產(chǎn)項目，主要生產(chǎn)設備全部由國外引進，主要引進地是 日本、美國、荷蘭，其生產(chǎn)過程的氣態(tài)主要污染物較多，經(jīng)污染因子識別與環(huán)評大綱專家討論會意見，從其對環(huán)境影響程度和危害性看，主要有H2S04霧、N0X、氟 化物、HC1、Cl2、非甲烷總烴、氨、H3P04、SiH4、PH3、AsH3o本次環(huán)境影響評價認為，目前半導體芯片行業(yè)在我國與世界各地均是新興行業(yè)，其污染物種類較多， 但相應的排放標準尚未界定清晰，我國信息產(chǎn)業(yè)部也正在制定相應的排放規(guī)定、技 術(shù)導則和排放標準，作為本項目來說，在我國沒有行業(yè)標準或國家標準之前，部分污染物排放限值執(zhí)行《大氣污染物綜合排放標準》(GB 16297—1996)中的“最高允許排放濃度和最高允許排放速率”新污染源二級標準，氨執(zhí)行《惡臭污染物排放標 準》(GB 14554—93)中氨的限值，特征污染物沒有查詢到設備引進地的排放標準。 PH3和AsH3執(zhí)行國家《工業(yè)企業(yè)設計衛(wèi)生標準》(TJ 36—79)車間空氣中有害物質(zhì) 的最高容許濃度0.3 mg/m3，H3P04執(zhí)行前蘇聯(lián)車間衛(wèi)生標準1.0mg/m3，SiH4執(zhí)行歐 盟中荷蘭的排放導則中的相關規(guī)定，具體指標見表6。參考執(zhí)行上述推薦控制標準 是可行的，在我國制定有行業(yè)標準或國家標準或其他相應污染物控制標準之后，建

設單位應遵照執(zhí)行。

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（責任編輯：中大編輯）

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